《等離子體高能合成射流》介紹等離子體高能合成射流及其高速主動流動控制技術研究成果，內容包括緒論、等離子體高能合成射流模型及測量方法、等離子體高能合成射流放電及能量效率特性、等離子體高能合成射流流場特性、等離子體高能合成射流陣列工作特性、等離子體高能合成射流在航空航天領域的應用等。

等離子體技術是推動高技術發(fā)展和傳統(tǒng)工業(yè)升級改造甚至改變世界的動力源泉之一�！兜入x子體物理學導論:原書第三版》圍繞等離子體技術的聚變應用，介紹了等離子體基本概念、微觀的單粒子運動基礎理論、宏觀的流體力學基礎理論、波動與輸運現(xiàn)象、平衡與穩(wěn)定性現(xiàn)象、動理學理論與阻尼現(xiàn)象，以及鞘層等其他非線性現(xiàn)象。為了拓寬讀者視野，《等離子體

專著，大氣壓等離子體射流（N-APPJs）能夠通過氣體放電產(chǎn)生高密度帶電粒子和活性成分，在高超音速飛行器發(fā)動機助燃、癌癥治療等領域有著重要應用，對國家高科技實力的提高有著顯著意義。本書針對N-APPJs的物理基礎進行詳細的介紹，主要從形成機理、控制規(guī)律和調控方法等方面展開介紹。第一章系統(tǒng)地介紹N-APPJs的發(fā)展歷史以

低溫等離子體被廣泛應用于脈沖激光沉積、磁控濺射、等離子體增強化學氣相沉積等現(xiàn)代半導體薄膜真空沉積技術中，并承擔著薄膜組分物質輸運、薄膜形核與生長動力學調控等關鍵性角色。由于等離子體性質是聯(lián)系薄膜真空沉積條件與沉積性能的關鍵性紐帶，以對等離子體性質的表征與探測為突破口并建立其與薄膜沉積條件和性能之間的基礎關系，有助于從理

本書闡述了低溫等離子體診斷的基本原理與重要技術。從等離子體的基本概念與性質、低溫等離子體的產(chǎn)生方法和等離子體中的基本化學過程，到低溫等離子體的探針診斷技術及其應用、光譜診斷技術及其應用、質譜診斷技術及其應用、離子能量診斷技術及其應用、波干涉診斷技術、等離子體阻抗分析技術及其應用，較全面地介紹了低溫等離子體診斷的基礎知識

本書共分7章：章緒論；第2章介紹云紋干涉法、電子束云紋法、納米壓痕法以及幾何相位分析法的基本原理；第3～7章主要為應用上述實驗方法研究復合材料界面細觀力學性能的實例，包括復合材料表面高頻正交光柵制備、界面基本力學性能研究、復合材料細觀蠕變性能研究、復合材料裂紋應變場以及界面殘余應力的相關研究。本書可供材料研究與開發(fā)的科

本書首先介紹了表面等離激元研究的背景和意義，綜述了超快等離激元動力學演化的研究進展；然后描述了表面等離激元的產(chǎn)生及基本特性，并給出了超快等離激元動力學演化過程的理論解釋，同時對納米結構等離激元的控制做了理論分析；最后借助ITR－MPPEEM技術對納米蝶形結構和石門結構中的超快等離激元動力學演化過程進行了近場成像表征。并

本書重點介紹了等離子體物理學的基本概念、原理和關鍵物理機制,重點突出物理原理、數(shù)學描述和推導。其中,第1章簡要介紹了等離子體的基本概念與基本性質,重點分析了等離子體的定義、特性與判據(jù);第2-6章分別從單粒子軌道理論、磁流體力學理論、等離子體波動理論、不穩(wěn)定性理論及等離子體動理論等五部分闡述了等離子體的物理性質與關鍵機理

熱等離子體技術在材料制備、高溫焊接、切割、噴涂、鍍膜、刻蝕、空氣凈化等領域得到了廣泛應用。自21世紀以來，熱等離子體技術在航空航天領域前沿創(chuàng)新技術研究中發(fā)揮了重要作用，已經(jīng)演化為備受關注的交叉學科。熱等離子體技術應用的基礎是如何產(chǎn)生熱等離子體�！逗教炜萍汲霭婊�金熱等離子體：基礎與應用.第1卷》從熱等離子體的基礎理論出發(fā)

針對飛行器進氣道、雷達艙和座艙等典型部件難以采用傳統(tǒng)技術實施隱身的難題，應用閉式透波等離子體放電技術段，研究了低溫等離子體產(chǎn)生與變化規(guī)律，重點對等離子體發(fā)生裝置的功率、體積和外形在飛行器應用的適應性方式展開了研究，進行了影響參數(shù)的敏感性分析，研究了等離子體產(chǎn)生的影響參數(shù)優(yōu)化問題，通過對低溫等離子體與電磁波作用機理的理論